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  • 次回発表予定 中間決算：2026/02/12 売買単位：100株
  • 8,300.0円

    (01/30 15:30)

      前日比 +87.0 (+1.06%)

    PER(予)

    20.4倍

    PBR(実)

    1.88倍

    配当利回り(予)

    1.98%

    時価総額

    4,097億円(15:30)

  • ROA(実)

    4.37%

    ROE(実)

    7.52%

    自己資本比率

    59.6%

    レーティング

    • ★
    • ★
    • ★
    • ★
    • ★

    4.63

    (対前週変化 0.00)

  • 予想経常利益(予)

    増益率

    28,500百万円

    -0.4%

    予想経常利益(コ)

    増益率

    28,654百万円

    0.2%

    目標株価(コ)

    株価かい離率

    7,975円

    -3.92%

    • 決算速報

      --

    • シグナル

      売り継続

    株価：15分ディレイ 財務データ：2026/01/29 更新

AI銘柄分析サマリー（β版）NEW

1. 過去増収率（3年平均）が1.4%となっており、同業他社と比較して成長性に課題があることがうかがえます。今期予想増収率も-0.9%と減収予想であり、収益拡大のペースが鈍化している可能性があります。

2. 出来高増加率（直近25日間）が72.7%と高水準を示しており、市場での注目度や投資家の関心が高まっていることが考えられます。この活発な売買は株価の変動要因として注意が必要です。

3. 時価総額が4054億円と大型株の規模を有しており、市場での存在感が大きいことを示しています。この規模は流動性の高さや機関投資家からの注目度の高さにつながる可能性があります。

2026/01/29 時点

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※本コンテンツは生成AIを活用しており、正確性や完全性は保証されておりません。
　詳細は、注意事項 をご参照ください。

基本情報

事業内容

世界トップの真空装置メーカー。真空技術を基盤に半導体・自動車・FPD業界向けに真空機器（FPD製造装置、半導体・電子部品製造装置、コンポーネント、一般産業用装置）、真空応用装置材料の製造・販売。

取扱い商品

・FPD製造装置（スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、真空蒸着装置）

・半導体・電子部品製造装置（スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、CVD装置、ウェーハ前処理装置）

データ提供: マーケットシステム24

セグメント売上構成

2025/06

(12か月)

 売上高
金額 (百万円) 構成比
真空機器 199,684 78.3%
真空応用 55,319 21.7%
損益計算書計上額 251,184 --
調整額 -3,820 --

銘柄診断カルテ

業績予想詳細

会社予想

今期見通し
減益

アナリスト予想

会社予想との比較
会社予想並み

トレンドシグナル® 詳細

トレンドシグナル®

今日のシグナル
売り継続

リスクオン相対指数

水準
高値圏警戒

目標株価

アナリスト評価詳細

レーティング
★★★★★  強気
目標株価
妥当水準

理論株価詳細

PBR基準
割高
PER基準
割高

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